立方氮化硼论文

于春娜[1]2003年在《两步法高质量立方氮化硼薄膜的制备和掺杂研究》文中研究指明本论文使用传统的JS-450A射频溅射系统利用两步法（降温降偏压法）沉积立方氮化硼薄膜，分别研究了各工艺参数对立方氮化硼成核和生长的影响。本文还研究了立方相含量与光学带隙的关系，在n型Si(111)片和熔融石英片上沉积...