反应磁控溅射论文

论文摘要我们采用反应磁控溅射的方法在p-Si（100）衬底上制备了HfO2薄膜。我们对制备的工艺进行了摸索。设计了不同的实验条件。分别在不同的工艺条件下制备得到HfO2薄膜。在...

论文摘要通过固定薄膜厚度与调制周期,改变Ti与TiN调制比(分别为1∶3、1∶5、1∶9和1∶11),采用反应磁控溅射法在硅片上制备Ti/TiN多层膜,研究调制比对薄膜微观组织...