薄膜厚度均匀性论文

球面光学元件表面193nm增透膜光谱均匀性优化技术研究
论文摘要以ArF准分子激光器作为光源的193nm光刻机,其半导体集成电路加工制程覆盖130nm至22nm,是目前以及未来长时间内半导体光刻工艺中的核心设备。在193nm光刻机设...