激光功率密度对相同曝光量下氧化石墨烯还原的影响(英文)

激光功率密度对相同曝光量下氧化石墨烯还原的影响(英文)

论文摘要

采用488nm连续激光在相同曝光量条件下对氧化石墨烯样品进行光照还原实验,并通过透射率和电阻率来表征还原氧化石墨烯的性质.结果表明:在还原过程中,通过透过率和电阻率表征的还原程度呈现相同的变化趋势.此外,还原过程分为两个步骤:达到相对稳定状态之前和达到相对稳定状态.在达到相对稳定状态之前,激光功率密度越低,样品的还原程度越高;但当达到相对稳定的状态后,激光功率密度越高,样品的还原程度越高.基于rGO中含氧官能团的变化,通过光子穿透能力和光对rGO的带隙调制作用对这一现象进行了分析.

论文目录

  • 0 Introduction
  • 1 Experimental and computational section
  •   1.1 Synthesis of graphene oxide films
  •   1.2 Experimental system
  •   1.3 Methods
  • 2 Results and discussion
  •   2.1 Performance characterization
  •   2.2 Effect of laser power density on reduction
  • 3 Analysis and discussion
  •   3.1 Before the relatively stable state
  •   3.2 After the relatively stable state
  • 4 Conclusion
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 谢磊,雷小华,谭小刚,刘显明,邓益俊,陈伟民

    关键词: 碳纳米材料,激光功率密度,光照还原,氧化石墨烯,透过率,电阻率

    来源: 光子学报 2019年05期

    年度: 2019

    分类: 基础科学,工程科技Ⅰ辑

    专业: 无机化工

    单位: 重庆大学光电工程学院光电技术及系统教育部重点实验室

    基金: The National Natural Science Foundation of China(No.61405019),Chongqing Basic and Frontier Research Project(No.cstc2014jcyjA50023)

    分类号: TQ127.11

    页码: 7-14

    总页数: 8

    文件大小: 3912K

    下载量: 105

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