化学气相沉积(CVD)工艺对ZnS力学性能影响的研究

化学气相沉积(CVD)工艺对ZnS力学性能影响的研究

论文摘要

介绍了化学气相沉积法(CVD)制备ZnS过程中,CVD工艺对材料相关力学性能的影响和控制方法。通过X射线衍射分析、扫描电镜和金相显微镜等手段研究了不同工艺下制备的ZnS样品材料的内部结构和缺陷,提出了ZnS生长过程中晶粒尺寸和材料缺陷的控制方法。研究结果表明,设计合理的喷嘴结构,营造稳定的CVD生长环境,提高CVD ZnS毛坯一致性,抑制材料缺陷形成,有助于提升ZnS材料力学相关性能。

论文目录

  • 1 引言
  • 2 反应机理与样品制备
  •   2.1 反应机理
  •   2.2 样品制备
  •     2.2.1 金相分析和抗弯强度测试
  •     2.2.2 XRD分析
  •     2.2.3 应力分析
  • 3 结果与讨论
  •   3.1 晶粒尺寸控制技术研究
  •     3.1.1 变温沉积抑制晶粒长大
  •     3.1.2 高真空抑制晶粒长大
  •   3.2 结构及缺陷控制技术研究
  •     3.2.1 六方相和异常晶的抑制研究
  •     3.2.2 胞状物及其它杂质和微孔生长的控制
  •   3.3 材料均匀性控制技术研究
  •     3.3.1 多喷嘴流型模拟和有限元分析原理
  •     3.3.2 CVD热场和压场稳定控制
  •     3.3.3 Zn/S配比稳定控制
  • 4 结论
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 李冬旭,魏乃光,蒋立朋,黎建明,杨海,张鹏飞,牛延星,田智瑞,郭立,杨建纯,刘晓华

    关键词: 化学气相沉积法,晶粒尺寸,喷射结构,力学性能

    来源: 人工晶体学报 2019年08期

    年度: 2019

    分类: 基础科学,工程科技Ⅰ辑

    专业: 无机化工

    单位: 有研科技集团有研国晶辉新材料有限公司

    基金: 军工资助项目

    分类号: TQ132.41

    DOI: 10.16553/j.cnki.issn1000-985x.2019.08.009

    页码: 1430-1437

    总页数: 8

    文件大小: 3029K

    下载量: 141

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