变栅距光栅论文_高敏,张卫平,刘诣荣,唐雅玲,卢泉

导读:本文包含了变栅距光栅论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译,主要关键词:光栅,栅距,光谱仪,密度,平面,自由电子,激光器。

变栅距光栅论文文献综述

高敏,张卫平,刘诣荣,唐雅玲,卢泉[1](2017)在《平面变栅距光栅实像像散研究》一文中研究指出为了探究平面变栅距光栅对物体成像时的像散情况,以自制光栅进行实验,研究物光经光栅衍射成像时子午像距和弧矢像距随入射角的变化关系,具体研究了7片中心栅距相同、栅距变化不同的平面弧线型光栅的像散情况,并进行了理论分析。实验结果与理论分析表明,在波长、物距一定的情况下,成像时子午像距几乎不受栅距与入射角变化的影响;弧矢像距随入射角的改变呈准抛物线状变化,且随栅距分布式系数B的增大而减小;系数B是平面弧线形变栅距光栅消像散成像条件中的关键因素。研究结果可为获得平面弧线型光栅对物体形成的消像散像提供依据。(本文来源于《广西大学学报(自然科学版)》期刊2017年02期)

李文昊,姜岩秀,吴娜,张桐,王鹍[2](2015)在《极紫外波段变栅距光栅刻槽密度变化及光谱分辨能力分析》一文中研究指出针对应用于50~150 nm波段的变栅距光栅,采用球面波曝光系统进行优化设计,分析了不同宽度光栅的刻槽密度变化和光谱分辨能力。理论分析结果表明,光栅宽度为4 mm时,理论分辨能力高于14 000;光栅宽度为10 mm时,理论分辨能力约为9 000;光栅宽度为30 mm时,理论分辨能力急剧下降,约为3 000。光栅的宽度越大,其刻槽弯曲程度就越大,光栅的光谱分辨能力就越低,因此球面波曝光系统只适合制作宽度较小的变栅距光栅。(本文来源于《发光学报》期刊2015年09期)

姜岩秀,巴音贺希格,赵旭龙,杨硕,吴娜[3](2015)在《自由电子激光器用极紫外波段平面变栅距光栅》一文中研究指出针对极紫外波段自由电子激光器(大连相干光源,DCLS)对高分辨能力平面变栅距光栅的需求,基于光程差以及像差原理构建了极紫外平面变栅距全息光栅。采用改进的局部优化算法给出了平面变栅距光栅的记录参数,利用全息曝光技术在硅光栅基底上制作了中心刻线密度为600gr/mm、占宽比为0.46、槽深为550nm、有效刻划面积为30mm×30mm的极紫外平面变栅距全息光栅。采用Littrow衍射法测量了平面变栅距光栅的刻线密度,并基于像差理论分析了平面变栅距光栅的理论分辨能力。结果表明:制作的600gr/mm平面变栅距光栅在有效面积内的刻线密度误差小于0.175gr/mm,在极紫外波段(50~150nm)的分辨能力大于12 000,满足自由电子激光器的设计要求。提出的设计及制作方法为制作高质量平面变栅距光栅提供了理论及技术保障。(本文来源于《光学精密工程》期刊2015年08期)

郭小花,赵玉祥[4](2015)在《变栅距光栅衍射的光强分析与模拟》一文中研究指出通过详细分析得出了变栅距光栅的光强分布函数,用Matlab软件模拟了其光强分布曲线,并通过对缝间参数的改变转化为等栅距光栅,验证了其光强函数的正确性,比较分析了变栅距光栅和等栅距光栅的光强分布曲线,得出变栅距光栅的光强分布仍受到单缝衍射因子的调制,在相邻的主最大之间出现了和等栅距光栅间相同数量的极大值和极小值,所不同的是变栅距光栅的光强同时受到了cos~22u因子的影响,相邻主最大之间出现了一些较强的次极大。(本文来源于《自动化与仪器仪表》期刊2015年05期)

周兴义[5](2014)在《平面变栅距光栅的栅距检测》一文中研究指出平面变栅距光栅是光栅发展史上的巨大技术进步。在其出现后短短十几年的时间内,引起了各国研究人员的密切关注,进行了大量的研究,并尝试将其应用于各种光谱仪中。但平面变栅距光栅的机械刻划十分困难,目前国际上只有日本、美国、德国可以刻制实用的平面变栅距光栅。研究平面变栅距光栅的原理、设计、制作和性能评价具有十分重要的意义。论文首先介绍了平面变栅距光栅的发展过程,叙述了平面变栅距光栅的特点、应用和研究近况,并对平面变栅距光栅单色仪和其它类型的掠入射单色仪(本文来源于《第十五届全国光学测试学术交流会论文摘要集》期刊2014-10-26)

宝剑光[6](2014)在《用于变栅距光栅位移传感器的微型光谱仪》一文中研究指出近年来对于航空领域,在光学传感飞行控制系统替代电学传感飞行控制系统成为必然趋势的背景下,需要大量高性能微型光谱仪完成各类光学传感器的解调工作。虽然变栅距光栅位移传感器本身有着很好的性能和不错的抗温度冲击能力,但是现有的微型光谱仪无法满足传感器系统所提出的在-55℃至+70℃的高低温冲击下输出波长误差不大于0.3nnm的要求(小于传感器工作带宽300nnm的1‰)。本文针对航空领域中变栅距光栅位移传感器的解调系统研制了一种具有实时温度补偿功能的微型光谱仪。为了实现实时温度补偿,我们对原有的交叉式C-T光路进行优化,用实验验证了优化的C-T光路光谱温度漂移情况及温度补偿方案的可行性。实验结果表明,所研制微型光谱仪在温度冲击下,能够实现光谱整体漂移,且采用本课题所提出的温度补偿方案后输出波长误差小于传感器系统提出的要求。最后在实验室搭建了相应的传感器系统,测试了所研制微型光谱仪的解调性能,测试结果令人满意,能够满足变栅距光栅位移传感器的要求。(本文来源于《中国科学技术大学》期刊2014-05-01)

郑普超,张兵,张超,包艳,李秉实[7](2013)在《变栅距光栅线位移传感器优化》一文中研究指出针对变栅距光栅线位移传感器的不足分别从本体、解调和光源进行了改进。研制出具有误差补偿功能的复合闪耀光栅代替原有变栅距光栅,使光位移传感器在航空温度环境(-55~75℃)下最大误差从1.984mm降到0.031mm;利用色敏元件代替光谱仪对光栅位移传感器进行信号解调,色敏元件不但精度高、体积小,响应速度快,还加入了温度传感器进行温度补偿,具有较好的环境适应性;采用自主研制的宽带LED光源体积小、效率高,是光位移传感器较为理想的宽带光源。针对多个关键因素进行改进,最终达到了变栅距光栅线位移传感器系统化、小型化的研制目标。(本文来源于《全面建成小康社会与中国航空发展——2013首届中国航空科学技术大会论文集》期刊2013-09-25)

王东辉,刘林,郑普超,李秉实,包艳[8](2013)在《变栅距光栅角位移传感器分辨率分析》一文中研究指出对影响变栅距光栅角位移传感器分辨率的因素进行了分析研究。推导出传感器分辨率的计算公式,并讨论了传感器分辨率与各参量之间的关系及提高分辨率的方法。针对衍射级次对分辨率的影响进行了理论分析和验证。证明了变栅距光栅角位移传感器分辨率与光栅栅距的定量变化关系并进行了仿真验证。为变栅距光栅角位移传感器设计优化提供了理论指导和计算方法。(本文来源于《激光与光电子学进展》期刊2013年06期)

黎华[9](2013)在《变栅距光栅透镜的设计与制作工艺研究》一文中研究指出微型光谱仪具有体积小、便于携带、使用简便等优点,在许多领域都具有广阔的应用前景,例如药物生产的实时监控与食品质量的快速分析等。因此,微型光谱仪的研究具有重大的意义。变栅距光栅透镜是透射式微型光谱仪中的核心元件,可以集成传统光路结构中的准直、色散和聚焦叁项功能,有效减小光谱仪的体积尺寸。变栅距光栅透镜的特点在于将变栅距光栅直接制作在透镜曲面上,透镜曲面的聚焦效果与变栅距光栅的消像差效果相结合,有望可以在厘米级光路尺寸范围内实现良好的光谱分辨效果,而目前MOEMS技术的发展为变栅距光栅透镜的制作提供了可能。本课题主要围绕变栅距光栅的优化设计和制作工艺两个方面进行研究。变栅距光栅的优化设计分叁步:首先本课题以MOEMS工艺技术为前提,构建出变栅距光栅透镜的设计模型,提出模型的简化依据以及符号约定。然后参考“最小波长变化”原理推导变栅距光栅透镜的光程差函数,并以此作为消像差优化设计中的像差评价函数。接着将像差评价函数展开成级数形式,每一项级数的系数对应于一种像差类型的大小与坐标变化的比例关系。这一方法用MATLAB编程实现。根据算例,尽管是变栅距光栅,但栅线的变化幅度非常平缓。然后在专用软件ZEMAX中对消像差优化结果进行仿真,对单波长的优化方法和多波长的优化方法进行了比较,观察到多波长的优化方法可以在450nm至650nm的波段内获得比较均匀的光谱仪分辨率,最佳分辨率为0.2nm,最差的分辨率在0.8nm以内,达到设计要求。光栅透镜的制作工艺采用光刻胶热熔法。本课题选择双层涂胶以及非完全显影的方式制作光栅透镜,口径约为1.1mm,其轮廓的球面拟合度较好。另外还分析了诸如接触角、显影程度和透镜口径等因素对热熔曲面轮廓的影响。实验证明较小的接触角能够让透镜的像面焦距不致于过小。在变栅距光栅的制作方面,本课题还探索了电子束光刻工艺以及常规的紫外光刻工艺。电子束光刻具有极高的精度,可以实现10nm甚至更小的线宽,但应用条件苛刻,难以完成曲面的聚焦加工,而且对基底材料的导电性有一定要求。而紫外光刻工艺虽然相对简单,但线宽最小仅能达到亚微米级别。此外,试制样本实验还发现透镜边缘位置存在光刻胶堆积的情况,所以并不适应。(本文来源于《中国科学院深圳先进技术研究院》期刊2013-04-01)

唐小村[10](2012)在《变栅距光栅的衍射实验仿真》一文中研究指出依据多缝夫琅禾费衍射的基本原理,对一种平面变栅距光栅的光强分布作出了理论分析,导出了光强分布公式。用Matlab软件对变栅距光栅的衍射进行了模拟仿真研究,通过改变栅距变化系数和起始栅距的值,得出了在不同条件下的衍射谱线特征。该计算结果和研究方法在实际的变栅距光栅应用中具有参考价值,为变栅距光栅参数的设计和优化提供了理论依据。(本文来源于《大学物理实验》期刊2012年05期)

变栅距光栅论文开题报告

(1)论文研究背景及目的

此处内容要求:

首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景,再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题,并提出你的论文准备的观点或解决方法。

写法范例:

针对应用于50~150 nm波段的变栅距光栅,采用球面波曝光系统进行优化设计,分析了不同宽度光栅的刻槽密度变化和光谱分辨能力。理论分析结果表明,光栅宽度为4 mm时,理论分辨能力高于14 000;光栅宽度为10 mm时,理论分辨能力约为9 000;光栅宽度为30 mm时,理论分辨能力急剧下降,约为3 000。光栅的宽度越大,其刻槽弯曲程度就越大,光栅的光谱分辨能力就越低,因此球面波曝光系统只适合制作宽度较小的变栅距光栅。

(2)本文研究方法

调查法:该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。

观察法:用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。

实验法:通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。

文献研究法:通过调查文献来获得资料,从而全面的、正确的了解掌握研究方法。

实证研究法:依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。

定性分析法:对研究对象进行“质”的方面的研究,这个方法需要计算的数据较少。

定量分析法:通过具体的数字,使人们对研究对象的认识进一步精确化。

跨学科研究法:运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。

功能分析法:这是社会科学用来分析社会现象的一种方法,从某一功能出发研究多个方面的影响。

模拟法:通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。

变栅距光栅论文参考文献

[1].高敏,张卫平,刘诣荣,唐雅玲,卢泉.平面变栅距光栅实像像散研究[J].广西大学学报(自然科学版).2017

[2].李文昊,姜岩秀,吴娜,张桐,王鹍.极紫外波段变栅距光栅刻槽密度变化及光谱分辨能力分析[J].发光学报.2015

[3].姜岩秀,巴音贺希格,赵旭龙,杨硕,吴娜.自由电子激光器用极紫外波段平面变栅距光栅[J].光学精密工程.2015

[4].郭小花,赵玉祥.变栅距光栅衍射的光强分析与模拟[J].自动化与仪器仪表.2015

[5].周兴义.平面变栅距光栅的栅距检测[C].第十五届全国光学测试学术交流会论文摘要集.2014

[6].宝剑光.用于变栅距光栅位移传感器的微型光谱仪[D].中国科学技术大学.2014

[7].郑普超,张兵,张超,包艳,李秉实.变栅距光栅线位移传感器优化[C].全面建成小康社会与中国航空发展——2013首届中国航空科学技术大会论文集.2013

[8].王东辉,刘林,郑普超,李秉实,包艳.变栅距光栅角位移传感器分辨率分析[J].激光与光电子学进展.2013

[9].黎华.变栅距光栅透镜的设计与制作工艺研究[D].中国科学院深圳先进技术研究院.2013

[10].唐小村.变栅距光栅的衍射实验仿真[J].大学物理实验.2012

论文知识图

(a)变栅距光栅衍射光强扫描图;(...1变栅距光栅波长位移编码原理图F...同视场2000 lp/mm变栅距光栅扫描...变化系数为0.9)图4变栅距光栅的...变化系数为1.1)图3变栅距光栅的...1变栅距光栅线位移传感器工作原理...

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