GCr15轴承内圈磁粒研磨光整实验

GCr15轴承内圈磁粒研磨光整实验

论文摘要

利用磁粒研磨加工工艺对轴承内圈进行光整加工实验,以降低其表面粗糙度值为目的,通过Ansoft Maxwell磁场模拟软件对磁极三种形状进行仿真分析,得到磁极开轴向槽磁场强度大,在此基础上研究了磨料粒径、磁极转速和研磨液用量对表面粗糙度值的影响。结果表明:当磨料粒径为185μm时,磁极转速为600 r/min、研磨液用量为6 mL,光整加工60 min,轴承内圈的表面粗糙度值由原始的0.51μm下降至0.10μm,表面的划痕、刀微纹基本全部去除,表面形貌的均匀性较好,表面的显微硬度由原始的820 HV变为了900 HV,研磨后的表面强度增加了。

论文目录

  • 1 实验部分
  •   1.1 磁粒研磨加工装置及原理
  •   1.2 轴承研磨工艺参数
  •   1.3 莱试硬度仪检测原理
  • 2 模拟及仿真分析
  • 3 结果与讨论
  •   3.1 磨料粒径对表面粗糙度的影响
  •   3.2 磁极转速对表面粗糙度的影响
  •   3.3 研磨液的量对表面粗糙度的影响
  •   3.4 光整加工前后表面形貌分析
  •   3.5 磁粒研磨对表面显微硬度的影响
  • 4 结论
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 刘冬冬,韩冰,陈燕,胡玉刚

    关键词: 磁粒研磨,磁场模拟,粗糙度值,表面形貌,显微硬度

    来源: 电镀与精饰 2019年07期

    年度: 2019

    分类: 工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑

    专业: 金属学及金属工艺,机械工业

    单位: 辽宁科技大学机械工程与自动化学院

    基金: 国家自然科学基金(51775258)

    分类号: TG580.68;TH133.3

    页码: 1-5

    总页数: 5

    文件大小: 1657K

    下载量: 78

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