Si对Hastelloy N合金氧化行为的影响

Si对Hastelloy N合金氧化行为的影响

论文摘要

利用不连续增重法,研究了不同Si含量的Hastelloy N合金850℃恒温氧化行为。结果表明,随Si含量的增加,氧化动力学曲线保持抛物线规律。氧化100 h后,氧化膜出现分层现象,最外层均为NiO、NiFe2O4等复合氧化物,中间层为Cr2O3、MoO2等氧化物。由于在氧化层与基体界面处形成连续致密的SiO2层,有效阻止Cr离子向外扩散进入氧化层,促进Hastelloy N合金中间层形成较为致密的Cr2O3氧化层,提高了合金的抗氧化性能。

论文目录

  • 1 实验
  • 2 结果与讨论
  •   2.1 氧化动力学曲线
  •   2.2 氧化产物分析
  •     2.2.1 X射线衍射分析
  •     2.2.2 表面分析
  •     2.2.3 氧化膜的截面形貌及成分分析
  •   2.3 讨论
  • 3 结论
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 郭伟杰,李建树,陆燕玲,张继祥,周兴泰

    关键词: 合金,高温氧化,氧化动力学,氧化层

    来源: 稀有金属材料与工程 2019年03期

    年度: 2019

    分类: 工程科技Ⅰ辑

    专业: 金属学及金属工艺

    单位: 中国科学院上海应用物理研究所,重庆交通大学

    基金: 国家自然科学基金(51674237),超轻材料与表面技术教育部重点实验室资助

    分类号: TG132.3

    页码: 885-891

    总页数: 7

    文件大小: 1269K

    下载量: 67

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