论文摘要
应用于微电子、集成电路、光伏电池、平面显示器、装饰镀膜玻璃等行业的溅射靶材需求量逐年增大,这些行业对溅射用难熔金属靶材的纯度、致密度、尺寸精度、微观组织、结晶取向等性能提出了更高的要求。综述了磁控溅射用W、Mo、Ta、Nb靶材的主要应用研发生产单位和制备技术,介绍了靶材组织、纯度等因素对薄膜性质的影响。
论文目录
文章来源
类型: 期刊论文
作者: 王晖,夏明星,李延超,刘啸锋,蔡小梅,白润,张新
关键词: 难熔金属,磁控溅射,靶材,集成电路,太阳能电池
来源: 中国钨业 2019年01期
年度: 2019
分类: 工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑
专业: 材料科学,工业通用技术及设备
单位: 西北有色金属研究院
分类号: TB383.2
页码: 64-69
总页数: 6
文件大小: 246K
下载量: 282
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