碳保护下钼金属表面MoSi2涂层的可控制备及表征

碳保护下钼金属表面MoSi2涂层的可控制备及表征

论文摘要

采用活性碳粉为气氛保护介质,以NaF为催化剂,通过改良包埋渗硅工艺在钼金属表面原位反应制备MoSi2抗氧化涂层。利用扫描电镜(SEM)、能谱分析(EDS)和X射线衍射仪(XRD)系统研究了热处理温度、热处理时间、催化剂含量和钼金属表面不同处理方式对涂层结构的影响,并分析了涂层制备机理。结果表明:采用碳保护下的改良包埋法在钼金属表面成功制备了MoSi2涂层,涂层结构致密,且与基体之间的结合性良好。随着热处理温度的升高,涂层厚度急剧线性增加,涂层结构致密性明显提高,在1200℃得到的涂层质量最佳;随着热处理时间的延长,涂层厚度不断增加,当超过120 min后,涂层的厚度变化趋于平缓;增大钼金属表面粗糙度有利于涂层生长,可增加涂层厚度,但改变NaF用量对涂层结构和厚度的影响较小。

论文目录

  • 0 引言
  • 1 实验
  •   1.1 基体预处理
  •   1.2 MoSi2涂层制备
  •   1.3 样品测试与表征
  • 2 结果与讨论
  •   2.1 涂层的形貌与结构
  •   2.2 热处理温度对涂层结构的影响
  •   2.3 热处理时间对涂层结构的影响
  •   2.4 催化剂含量对涂层结构的影响
  •   2.5 钼金属表面粗糙度对涂层结构的影响
  • 3 结论
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 詹磊,杨克明,王军霞,魏玉峰,杨世源,张修路

    关键词: 涂层,碳粉,包埋渗硅,结构

    来源: 中国陶瓷 2019年08期

    年度: 2019

    分类: 工程科技Ⅰ辑

    专业: 金属学及金属工艺

    单位: 西南科技大学材料科学与工程学院,西南科技大学国防科技学院

    基金: 国防科工局技术基础项目(JSHS2014404B002)

    分类号: TG174.4;TG146.412

    DOI: 10.16521/j.cnki.issn.1001-9642.2019.08.005

    页码: 23-30

    总页数: 8

    文件大小: 2543K

    下载量: 47

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