脉冲周期对黄金电沉积层的影响(英文)

脉冲周期对黄金电沉积层的影响(英文)

论文摘要

在无氰黄金电沉积工艺的基础上,利用双向脉冲电源,经过20 h的电沉积可以得到质量较好的厚度达150μm的黄金样品。通过以脉冲周期为单一变量实验,研究了脉冲周期对黄金电沉积层的影响,利用扫描电镜、X射线衍射仪以及维氏硬度计探讨了黄金电沉积层的微观形貌、平均晶粒尺寸以及维氏硬度。结果显示,当脉冲周期为45~75 ms时,电沉积层的维氏硬度HV0.1较高,最高可以达到1170 MPa,且电沉积层具有较强的(111)晶面的择优取向。较强的(111)晶面择优取向伴随着电沉积层更加平整的微观形貌以及更高的维氏硬度。

论文目录

  • 1 Experiment
  •   1.1 Experimental environment
  •   1.2 Test experiment
  • 2 Results and Discussion
  •   2.1 Hardness test
  •   2.2 Grain size
  •   2.3 Layer texture
  •   2.4 Surface morphology
  • 3 Conclusions
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 郑利珊,袁心强,雷婷

    关键词: 双向脉冲,脉冲周期,黄金,维氏硬度,无氰电沉积

    来源: 稀有金属材料与工程 2019年06期

    年度: 2019

    分类: 工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑

    专业: 无机化工,电力工业

    单位: 中国地质大学(武汉),武汉工程科技学院

    基金: Gemmological Institute China University of Geosciences(Wuhan)Open Fund(CJHIXM-S201615)

    分类号: TQ153.18

    页码: 1797-1802

    总页数: 6

    文件大小: 2271K

    下载量: 35

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