HVOF制备MCrAlY涂层过程中WC杂质颗粒的演变遗传行为研究

HVOF制备MCrAlY涂层过程中WC杂质颗粒的演变遗传行为研究

论文摘要

在热喷涂工业生产过程中,喷涂制备不同材料体系的涂层之前需要对送粉路径(送粉罐、送粉盘、搅拌器、送粉管路、送粉针)进行清理,但由于送粉路径内部结构复杂且存在静电吸附效应,使得残留于喷涂系统的粉末无法被完全去除,通常以微量杂质颗粒的形式被带入新涂层,进而影响新涂层的性能。为此,本文研究了在单晶基材表面采用高速火焰(HVOF)喷涂制备MCrAlY涂层过程中,送粉路径残留的WC杂质颗粒(WC-10Co4Cr)在涂层及涂层与基材界面处的遗传演变行为,分别采用SEM、EDS分析了WC杂质在喷涂态、热处理态涂层中的微观组织和相组成。研究结果表明,WC杂质颗粒确实存在于MCrAlY涂层中,并在后期热处理及氧化试验中进一步分解而固溶于涂层中,甚至扩散至单晶基材内部引起含W碳化物的生成,影响涂层及单晶基材的显微组织,改变局部的成分均匀性。同时,本文还采用ThermoCalc软件进行了热力学计算模拟,辅助分析了WC分解及W与C元素在显微组织中的遗传特性。对于WC类粉末和MCrAlY粉末共用的HVOF喷涂设备,建议给MCrAlY粉末配备单独的送粉路径,以确保涂层的纯净度与质量。

论文目录

  • 0 引言
  • 1 试验
  • 2 结果及分析
  •   2.1 WC杂质颗粒在MCrAlY涂层中的遗传演变行为
  •   2.2 WC杂质颗粒在涂层-基材界面附近的遗传演变行为
  • 3 结论
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 侯伟骜,原慷,冀晓鹃,刘建明,章德铭

    关键词: 热喷涂,组织演变

    来源: 热喷涂技术 2019年02期

    年度: 2019

    分类: 工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑

    专业: 金属学及金属工艺,航空航天科学与工程

    单位: 北京矿冶科技集团有限公司,北矿新材科技有限公司,北京市工业部件表面强化与修复工程技术研究中心

    基金: 北京市教育委员会科技计划重点项目(KZ201910009010)

    分类号: V263;TG174.4;TG132.3

    页码: 12-18

    总页数: 7

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